Méthode de réduction de la silice: Il s'agit d'une méthode de préparation courante. L'agent de réduction de la silice et du carbone est réduit dans une fournaise à haute température pour générer du silicium métallique.
Le silicium métallique généré est refroidi, écrasé et tamisé pour obtenir de la poudre de silicium métallique de différentes tailles de particules.
Méthode de dépôt de vapeur: Grâce à la technologie de dépôt chimique de vapeur (CVD), le gaz contenant du silicium (comme le silane) est décomposé à haute température et déposé sur le substrat pour former de la poudre de silicium métallique. La poudre de silicium métallique préparée par cette méthode a une pureté élevée et une taille de particules uniformes, qui convient aux applications électroniques de haute précision.
Méthode du plasma: L'utilisation des caractéristiques à haute température et à haute énergie du plasma, les matériaux source de silicium (comme le silane) sont décomposés pour générer de la poudre de silicium métallique. Lepoudre de silicium métalliquePréparé par cette méthode a une pureté élevée et une activité élevée, ce qui convient à l'application.
Affichage de l'image d'échantillon de produit en poudre en silicium en métal
